电子芯片半导体行业超纯水制备方法

        半导体工业需要大量的超纯水，随着半导体工业的发展，对超纯水水质的要求日趋严格。当前半导体工业的超纯水的水质指标要求，甚至严格于我国国标电子水的最高标准要求，如微粒子，TOC，电阻率，溶解氧等。因此，相比于其他行业的超纯水，需要更加严格的深度处理技术，如深度处理颗粒物，有机物，深度脱盐，深度脱气技术等等。

   电子半导体芯片清洗水去离子超纯水设备，电子芯片半导体精密产品清洗用水、半导体封装用水、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

   超纯水设备系统根据半导体芯片用水要求，采用当今先进的全自动EDI电去离子超纯水处理技术，预处理系统配套使用加RO反渗透处理，能有效去除水中各种盐份及杂质，然后运用EDI系统（电渗析），进一步提升水质，超纯水水质完全符合半导体超纯水用水要求。超纯水系统采用全自运控制，辉月净化水设备具有产水水质稳定、PLC编程结合触摸屏操作简便、运行费用低、绿色环保、维护方便等优点，已广泛应用于电子、医药、电力、汽车等相关行业。

超纯水设备